苏大维格提出以微纳结构形貌Voxel为基础，研究先进材料与功能光电子器件，根据光效和立体感的需求，计算立体图像的设计数据，建立了全新设计处理方法与微纳制造技术。

• 多维文档定义：支持通用特性的光学纹理的结构设计与数据处理（4~5维变量）
• 先进算法与软件：海量数据处理必然需要先进算法和处理软件
• 灰度3D光刻技术：支持将数据转化成Voxel微纳结构形貌，数字光场的3D光刻直写

矢量线、三维形貌、像素化数字模板相结合（Tb数据处理能力）

• 立体图像的海量数据处理
• 1幅A4，数据量~6Tbit
• 300mmx200mm/0.1um/0.1um

三维光刻工艺：催生新产品-新材料-新器件

平面成像、虚实融合显示、透明电极与天线、飞机减阻除冰，太阳能陷光、医学3D成像、微波光子与光子芯片、光场调控材料、光电转换器件……