技术特点

• 大幅面iGrapher是专门为在大尺寸基片（米级幅面）上进行快速并高品质图形化而设计的大型直写光刻系统，iGrapher1000~3000，覆盖了从32英寸~130英寸的光刻幅面，可用于触控、显示、照明等领域的大面积图形制备需求。
• iGrapher系列配置355nm固体激光器为光源、高数值孔径写入光学系统，支持近紫外感光材料工艺，配置气浮运动系统、干涉仪闭环系统和环境控制系统，具有优秀的线宽精度和均匀性控制能力，支持7×24小时连续运行。
• 支持GDSII、DXF等通用工业数据格式，匹配常规光刻需求。配置了数据处理服务器，支持STL等3D结构数据格式的高分辨率实时高通量处理，也能够对解析表达的设计进行实时图形化转换处理，是进行微纳光学材料、光学膜等创新开发的有效装备。

规格参数

* 具体指标因工艺差异有所不同

应用示例