技术特点
- Microlab是专门为基础研究而设计的多功能直写光刻系统，配置405nm长寿命光源，能够在多种近紫外光刻胶制备几乎任何需要的微结构，应用例如实验型掩模版、微流控芯片、二维材料电极、微光学、MEMS等，选配355nm紫外光源，适用于SU-8等特殊光刻胶工艺，选配位相干涉、偏振调控模块，可应用于衍射光学器件等研究制备。
- Microlab可支持4~6英寸写入幅面，支持最小5mm尺寸的小基片，支持GDSII,STL,BMP等文件格式，进行2D、3D形貌微结构制备，支持多文件合并创建光刻任务，无人值守一次完成。具备扫描式、步进式、定点写入等多种光刻模式，能够为特殊器件研发提供定制化解决方案。
规格参数
* 具体指标因工艺差异有所不同
应用示例
