技术特点
- Nanocrystal是专门为纳米光学结构制备而设计的无掩模光刻系统，配置了可连续变空频的位相干涉系统，实现亚波长光学结构的亚纳米调控精度制备。
- 该光刻系统采用355nm紫外光源、大数值孔径（NA=0.9）干涉光学系统、百微米像素视场范围，满足150nm-5μm范围微纳光学结构制备，配置3D导航聚焦、飞行高速曝光模式，是大幅面亚波长结构制备的优秀手段。可应用于光子晶体、衍射光学器件、光场调控显示、光学超表面等研究和器件制备。
规格参数
* 具体指标因工艺差异有所不同
应用示例
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Nanocrystal 大幅面纳米光刻